Vara izsmidzināšanas mērķis tiek izmantots dažādām plānām plēvēm, tostarp kā vadītāja materiāls loģikas un atmiņas ierīcēs. Fabmann var piegādāt augstākās kvalitātes vara mērķa materiālus ar dažādu paritāti, piemēram, 4N (99,99%), 4N5 (99,995%) un 5N (99,999%) OEM PVD (fiziskā tvaiku nogulsnēšanās) sistēmām, un mēs daudz koncentrējamies uz progresīvu termomehānisko apstrādi (ATMP). ), lai nodrošinātu labāku kristālogrāfiskās tekstūras un graudu izmēra kvalitāti īpaši augstai veiktspējai ar minimālām izmaksām. Mēs varam piegādāt gan rotējošus, gan plakanus vara izsmidzināšanas materiālus ar graudu izmēru, kas mazāks par 80 μm un skābekļa saturu mazāku par 5 ppm.
Planar Copper Target ražošanas process
Ražošanas procesa kontrole ir ļoti svarīga, lai nodrošinātu augstas kvalitātes vara izsmidzināšanas mērķa materiālus, un tai parasti ir šādas darbības:
√ Augstas tīrības pakāpes vara lietņu ražošana, izmantojot elektrolītisko attīrīšanu, vakuuma indukcijas kausēšanu un vakuuma elektronu staru kausēšanu.
√ Otrais solis ir panākt, lai vara stieņa secīgi tiktu veikta karstā kalšana, termiskā apstrāde, aukstā kalšana un termiskā apstrāde, lai iegūtu iepriekšēju apstrādi.
vara sagataves.
√ Iepriekš apstrādāto vara sagatavi pēc tam secīgi pakļauj karstajai velmēšanai, termiskai apstrādei, aukstai velmēšanai un termiskai apstrādei, lai iegūtu vara mērķi
tukšs.
√ Noņemiet vara mērķa sagatavju apvalku
√ Veiciet pasūtījuma apstrādi, lai sasniegtu vēlamos galīgos izmērus un virsmas apdari, un ir nepieciešams izsmidzināt dzesēšanas šķidrumu, lai novērstu vara cauruli
Mērķis nedeformējas apstrādes sprieguma dēļ.
√ Pēc slīpēšanas un pulēšanas tiek iegūts gatavo vara mērķa materiāls.
Planārais vara mērķa izmērs
√ 750 x 250 (T: 20 mm),
1200 x 250 (T: 20 mm),
914 x 914 (T: 12 mm),
500 x 500 (T: 4 mm),
pielāgots izmērs ar maksimālo garumu līdz 3,000mm
√ Pielāgots pielāgots mērķis ar CNC, urbšanu, vītņošanu, slīpumu un rievām
√ Apļveida plakanā mērķa diametrs no 2 collām līdz 6 collām ar 1/8 collu vai 1/4 collu
√ Pieejams līmēšanas pakalpojums
Rotējošā vara mērķa ražošanas process
Rotējami izsmidzināšanas mērķi, kas pazīstami arī kā rotējoši katodi vai rotējoši mērķi, ir specializēti materiāli, ko izmanto izsmidzināšanas tehnikā, ko sauc par magnetronu izsmidzināšanu. Izsmidzināšana ir fiziskas tvaiku pārklāšanas (PVD) process, ātrdarbīgs process, kurā īpaši ātri joni sasniedz izsmidzināšanas mērķi un izspiež nelielas daļiņas, ko plaši izmanto pusvadītāju, elektronikas un plāno kārtiņu rūpniecībā, lai uz substrātiem uzklātu dažādu materiālu plānas kārtiņas. Rotējošā vara mērķa standarta ražošanas process sākas no vakuumkausēšanas, elektrolītisko vara lietņu liešanas un lietņu karstās ekstrūzijas un apstrādes. Pirmkārt, augstas tīrības pakāpes vara stieņu ražo vakuumkausēšanas ceļā, un pēc tam to karsti izspiež līdz vara caurules sagatavei. Pēc tam tas tiek iztaisnots ar hidrauliskās kalibrēšanas mašīnu, lai sasniegtu taisnumu, kas mazāks par 1 mm/m. Pēc tam iztaisnotā caurules sagatave tiek precīzi apstrādāta CNC mašīnā līdz tā izmēru precizitātei, savukārt virsmas raupjumam jāatbilst noteiktajām prasībām. Zemāk ir detalizēts ražošanas process:
√ Augstas tīrības pakāpes elektrolītisko varu ievieto vakuuma indukcijas kausēšanas krāsnī un pēc tam veic vakuumkausēšanu.
√ Iegūtais kausētais varš tiek iepludināts vara apaļo lietņu liešanas krāsns kristalizatorā;
√ Pēc tam vara stieņu pārnes uz ekstrūzijas mucu karstai ekstrūzijai, un tam ir nepieciešams vismaz 25KN spiediens ar 400-500 grādu temperatūru. Tas ir
ir svarīgi, lai spiediens būtu pietiekami liels, lai karstās ekstrūzijas procesā sasniegtu graudu izmēru, kas mazāks par 150 μm.
√ Vara caurules sagatavi dabiski atdzesē līdz istabas temperatūrai un pēc tam iztaisno. Ja vara caurules siena ir lielāka par 20 mm, tā ir
pirms iztaisnošanas ir nepieciešams sildīt cauruli no 200 līdz 300 grādiem.
√ Vara caurules sagatave tiek sagriezta un apstrādāta atbilstoši vēlamajai specifikācijai, un ir nepieciešams izsmidzināt dzesēšanas šķidrumu, lai novērstu vara caurules mērķa deformāciju.
apstrādes sprieguma dēļ.
√ Pēc slīpēšanas un pulēšanas tiek iegūts gatavo rotācijas vara mērķa materiāls.
Salīdzinot ar plakaniem mērķiem, rotējošais mērķis satur vairāk materiālu un nodrošina lielāku izmantošanu, kas nozīmē ilgāku ražošanas posmu un samazinātu sistēmas dīkstāves laiku, palielina pārklājuma iekārtu caurlaidspēju. Turklāt rotācijas izsmidzināšanas mērķis ļauj izmantot lielāku jaudas blīvumu, jo siltuma uzkrāšanās vienmērīgi tiek sadalīta pa mērķa virsmu. Tā rezultātā var tikt sasniegts palielināts nogulsnēšanās ātrums, kā arī uzlabota veiktspēja reaktīvās izsmidzināšanas laikā. Salīdzinot ar plakaniem mērķiem, rotējošais mērķis satur vairāk materiālu un nodrošina lielāku izmantošanu, kas nozīmē ilgāku ražošanas ciklu un samazinātu sistēmas dīkstāves laiku, palielina pārklājuma iekārtu caurlaidspēju. Turklāt rotācijas izsmidzināšanas mērķis ļauj izmantot lielāku jaudas blīvumu, jo siltuma uzkrāšanās vienmērīgi tiek sadalīta pa mērķa virsmu. Tā rezultātā var novērot palielinātu nogulsnēšanas ātrumu un uzlabotu veiktspēju reaktīvās izsmidzināšanas laikā.
Rotācijas izsmidzināšanas mērķa priekšrocības
√ Uzlabota vienmērība, mērķa rotācija palīdz panākt vienmērīgāku eroziju un nogulsnēšanos visā tā virsmā. Mērķim griežoties, atšķiras
mērķa apgabali ir pakļauti jonu bombardēšanai, izraisot vienmērīgāku erozijas un nogulsnēšanās ātrumu.
√ Uzlabota mērķa izmantošana, erozija tiek izplatīta pa lielāku virsmas laukumu, samazinot lokalizētos bojājumus un pagarinot mērķa kalpošanas laiku. Arī šis
palīdz uzlabot procesa efektivitāti un samazina dīkstāves laiku mērķa nomaiņai.
√ Uzlabots nogulsnēšanās ātrums, mērķa rotācijas kustība var uzlabot jonizācijas un izsmidzināšanas efektivitāti, kas izraisa lielāku nogulsnēšanos
likmes, vienlaikus samazinot kopējo procesa laiku, kas nepieciešams, lai sasniegtu vēlamo plēves biezumu.
√ Uzlabota plēves kvalitāte, uzlabota mērķa izmantošana un viendabīgums var palīdzēt samazināt defektus, piemaisījumus un spriegumu nogulsnētajās plēvēs,
kā rezultātā uzlabojas elektriskās, optiskās un mehāniskās īpašības.
Rotācijas vara mērķa izmērs
√ OD no 2 collām līdz 7 collām
√ ID no 1,5 collas līdz 6 collām
√ Garums no 50 collām līdz 130 collām (1270 mm līdz 3302 mm)
√ Pielāgots rotējošais mērķis
√ Pieejams līmēšanas pakalpojums
Fabmann specializējas augstas tīrības vara izsmidzināšanas mērķu piegādē ar visaugstāko iespējamo blīvumu un mazāko iespējamo graudu izmēru izmantošanai pusvadītāju, ķīmiskās tvaiku pārklāšanas (CVD) un fiziskās tvaiku pārklāšanas (PVD) displejā un optiskajos lietojumos. Mēs varam arī piegādāt izsmidzināšanas mērķus ar monobloku vai savienotu ar plakanu mērķi ar caurumu un vītnēm, slīpumu, rievām un pamatni, kas paredzēti darbam gan ar vecākām izsmidzināšanas ierīcēm, gan ar jaunākajām procesa iekārtām, piemēram, liela laukuma pārklājumu saules enerģijai vai kurināmā elementiem. un flip-chip lietojumprogrammas. Mēs varam nodrošināt pielāgotu ražošanas risinājumu visu formu un konfigurāciju mērķiem, kas ir saderīgi ar visiem standarta lielgabaliem, ieskaitot apļveida, taisnstūra, gredzenveida, ovālas, rotācijas un pētnieciskā izmēra ieročus. Bez tam, augstas tīrības vara izsmidzināšanas mērķi, Fabmann piegādā arī parastās bezskābekļa vara plāksnes ar dažādām kategorijām, piemēram, CW008A (C10200), CW009A (C10100), CW004A (C11000), CW0024A (C12200), kā arī mēs varam piegādāt arī biezas plāksnes. plāksnes ar biezumu līdz 30 mm.
Populāri tagi: vara izsmidzināšanas mērķis, Ķīna, ražotāji, piegādātāji, rūpnīca, pēc pasūtījuma
